只是光源，后续有一大堆的工艺等着改进呢。
目前的化学研磨，哪里有针对拓扑半金属的工艺。”
化学机械研磨是芯片制造中的关键工艺流程，它通过机械和研磨液实现硅片表面的平坦，避免了硅片表面起伏而导致的电阻值不同引起的电路短路。
硅片表面不平坦不仅会带来电路短路问题，还会造成光刻过程中无法准确对焦，导致线宽控制的失效。
因此它几乎是不可或缺的一部分。
“也许拓扑半金属不需要化学研磨？”
“不需要化学研磨？怎么可能，它是半金属不是常温超导，不是整个内部电阻都为零。
本站域名已经更换为 。请牢记。 它依然有电阻存在。”
现有化学研磨工艺需要研磨液、研磨头和研磨垫等耗材组成，他们都是针对特定材料的耗材，目前工艺中主要还是针对硅研磨和硅氧化物研磨。
因此针对拓扑半金属，完全没有适配的耗材和工艺。
“哪怕需要化学研磨也能找到解决方案，这工艺又不难。”
“不难归不难，问题是时间，我想表达的是两年时间怎么看都不够。”
“为什么要卡两年，是因为台积电的工艺大概率会在两年后来到1nm，也就是现有体系的极限了，光神想的是弯道超车，在他们实现1nm前我们先在那等他们。
问题是两年做不到又怎么样？只要最后整个工艺流程能打通，别说两年，哪怕五年对于中芯国际来说也是大赚。
申海微电子的28nm全国产光刻机可是从20年就在喊要交付，现在都2024年了也没见他们交付成功了，不也没事吗？”
“也对，我们急什么，我们急也没用。”
中芯国际内部参与到712项目中的工程师对于两年能搞定全新的工艺越来越不乐观。
从资本市场来看，同样如此，712工程被阿美利肯知道后，英特尔、台积电和英伟达这些上市公司的股价当天微跌后迅速止跌。
阿美利肯压根不相信他们能做到，哪怕有陈元光。
“不可能，绝对不可能。
华国绝对不可能通过全新的材料绕过光刻机的限制，把芯片推进到1nm工艺制程上。”
虽说华尔街不信，但是华盛顿依然对这一可能性如临大敌，量子计算机已经足够给他们的算力封锁来一拳了，要是再实现了芯片工艺制程的突破，还是比阿美利肯先到1nm，那全球消费电子市场都要面临一次洗牌。
因此他们在国会山紧急召开内部秘密听证会，邀请了英特尔的CEO帕特·格尔辛格和德州仪器的CEO里奇·坦普莱顿接受听证。
帕特斩钉截铁道：“优化现有芯片制造工艺是一项庞大的工程，哪怕是阿美利肯要做到这一点也要赖以全球包括霓虹、荷兰、高丽、英格兰等十来个国家，数十家供应链企业配合下，才有可能做到。”
“格尔辛格先生，抱歉打断你，刚刚你提到优化现有芯片制造工艺需要数十家供应链企业配合，可根据历史来看，台积电在干式光刻机到浸润式光刻机的工艺优化过程中，仅仅只和ASML进行了配合。”某位议员反问道。
帕特以为他们只是过来表演一番，让华盛顿方面安心，结果没想到这帮老爷居然真的做了准备：
“你说的没错，从干式到浸润式是相对容易的，在光源和硅片之间加水，这是程度很弱的优化，而华国人想通过拓扑半金属替代掉硅片。
这用优化来形容都不够，这是要彻底绕开现有芯片制造工艺体系，这个的难度比干式到浸润式要大得多，他们之间的难度不是一个量级。
前者的难度好比从个人掌上电脑到智能手机之间过渡，而后者则是从智能手机到元宇宙。”
帕特没有纠正对方的错误，干式光刻机到浸润式光刻机，不仅是ASML配合，蔡司同样需要配合，需要重新设计他们的物镜。
“也就是说他们一定无法成功？哪怕有莱特·陈的参与。”另一位议员问。
帕特听完后笑了笑，然后整理了一下自己的领带：“抱歉，我听说莱特·陈在华国有着光神的外号，但是很无奈这是现实世界，不存在神。
拓扑半金属替代硅片，我相信这是可行的技术方案，但是华国不依赖国外供应商，自己搞定这一切，我不相信。
他是人，不是神。”
帕特和里奇对视了一眼后都看出了对方眼神中的无奈，在他们看来华盛顿的老爷们已经被莱特·陈给吓得失去了理性判断，居然相信华国能靠自己颠覆掉掉全球数十年打造出来的半导体产业。
里奇说：“我同意帕特的观点。
我很了解莱特博士，之前在MIT的一次学术会议上我们见过一次，他在学术上有着非凡洞察力和非常缜密的逻辑思考能力。
他绝对会是个卓越的科学家，或者说他已经是了。
但是工业界和学术界是两回事，工业界需要更多的环节，需要更多的配合，单个工艺突破需要其他工艺的配合。
从硅片到拓扑半金属，这涉及到整个芯片生产工艺的基石更替，它是非常困难的一件事，